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一种提高植物种植区环境湿度的地下水槽及其制作方法
- 专利权人:
- 中国科学院沈阳应用生态研究所
- 发明人:
- 陈玮,张粤,赵璞
- 申请号：
- CN200910220674.1
- 公开号：
- CN102090283B
- 申请日:
- 2009.12.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 张志伟
- 摘要：
- 本发明涉及苗木种植及园林造园技术，具体为一种提高植物种植区环境湿度的地下水槽及其制作方法。在植物种植区的下方制作地下水槽，该地下水槽设有：内边沿、外边沿、网格、土壤层、卵石层II、溢水口、进水口、连通口，内边沿设置于外边沿的内圈，内边沿与外边沿平行设置，在内边沿与底面结合处设置与外边沿的多个连通口，在外边沿自下而上设置进水口和溢水口，在内边沿的内侧自下而上设置填充河卵石的网格、卵石层II和土壤层；所述网格由多个网格单元构成，并在每个网格单元的边与底面连接位置开有相互的连通口。本发明通，解决现有技术中存在的无法长期保持植物生长环境的湿度、且费时费力等问题，可广泛应用于林业和园林工作中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
