您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

オルガノポリシロキサン並びに毛髪化粧料及びその製造方法
专利权人:
SHIN ETSU CHEM CO LTD
发明人:
KAMEI MASANAO,亀井 正直
申请号:
JP2015133216
公开号:
JP2017014408A
申请日:
2015.07.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide organopolysiloxane protecting hair with excellent adsorption power and capable of adding effects such as smoothness, combing and flexibility during wet and dry and further adding effects such as glazing during dry.SOLUTION: There is provided organopolysiloxane having a substituent represented by the formula (1), where R1 is a C1 to 10 divalent hydrocarbon group, R2, R4 and R5 are each independently H, a C1 to 10 monovalent hydrocarbon group, a group represented by the formula (2) or a group represented by the average composition formula (3), R3 is a C2 to 10 bivalent hydrocarbon group and at least one of the group represented by the formula (2) or the group represented by the average composition formula (3) in a molecule of organopolysiloxane and n is 0 to 3.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】優れた吸着力によって毛髪を保護し、湿潤時及び乾燥時において、滑らかさ、櫛通り、柔軟性等の効果を付与でき、乾燥時においては、更に、艶等の効果を付与できる毛髪化粧料を与えることができるオルガノポリシロキサンを提供する。【解決手段】式(1)で表される置換基を有するオルガノポリシロキサン。(R1はC1~10の2価炭化水素基;R2,R4及びR5は各々独立にH、C1~10の1価炭化水素基、式(2)で表される基又は平均組成式(3)で表される基;R3はC2~10の2価炭化水素基;オルガノポリシロキサン1分子中、式(2)で表される基及び平均組成式(3)で表される基を少なくとも1個含む;nは0~3)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充