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一种避免二次损伤的高精度侧脑室穿刺定位仪
专利权人:
西南医科大学附属医院
发明人:
刘洛同,吴丽红,罗宁,向伟,周杰,王颢润
申请号:
CN201922474761.1
公开号:
CN211381666U
申请日:
2019.12.31
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本实用新型公开了一种避免二次损伤的高精度侧脑室穿刺定位仪,包括基座,基座包括下部基座环和两条弧形平行导轨,导轨与基座环垂直设置,导轨的表面设置有刻度线;两条导轨之间安置有导管,导管的头部与导轨下部卡接,导管上嵌套有滑块,滑块下部与导轨上部贴合,滑块表面设置有与导轨表面刻度线相配合的指针;导管上还设置有锁紧件;导管一侧设置有开口,置于导管上的滑块和锁紧件均设置有与导管开口位置相匹配的开口,导管开口的侧壁还设有封闭开口的滑动门,基座中导轨的弧度为120°,导轨表面刻度线的刻度区间为‑60~+60°。该侧脑室穿刺定位仪能提升可操作性,增加精度,避免二次损伤,减少手术操作步骤,降低感染和癫痫发生的风险。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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