含有多奈哌齐的经皮吸收制剂及其制备方法
- 专利权人:
- SK化学株式会社
- 发明人:
- 任钟燮,黄用渊,尹愿老,朴如瞋,金慧敏,吴畯教,金薰泽,李峰镛
- 申请号：
- CN201380011429.4
- 公开号：
- CN104144684A
- 申请日:
- 2013.02.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及如以贴剂形式提供的经皮吸收制剂，涉及其制备方法，其中经皮吸收制剂具有包括粘合剂层和含有药物的基质层的双层结构，其中所述含有药物的基质层通过将多奈哌齐用特定聚合物完全溶解并随后与粘合剂一同配制而获得。根据本发明，所述经皮吸收制剂不显示制剂中多奈哌齐的析出，并可在长时间内以均一速率释放多奈哌齐，而且防止在具有单层结构的经皮吸收制剂中出现的突释现象。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
