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하전입자빔 생성에 사용되는 타겟 구조체, 그 제조 방법 및 이를 이용한 의료 기구
专利权人:
ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE
发明人:
CHO, SEONG MOK,조성목,JUNG, MOON YOUN,정문연,KIM, SEUNG HWAN,김승환
申请号:
KR1020110004195
公开号:
KR1020120035823A
申请日:
2011.01.14
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A target structure for generating charged particle beam, a manufacturing method thereof, a medical appliance using the same are provided to improve the structural stability of a thin target layer.CONSTITUTION: A target structure comprises a target layer(150) and support body(100). The target layer is equipped with a first surface to which a laser beam is irradiated and a second surface from which a charged particle beam is emitted. The support body has a penetration hole(200) which is used as a travel route of the laser beam or the charged particle beam. The support body is selected from silicon, sapphire, diamond, quartz, glass, a ceramic material, or a metal material.COPYRIGHT KIPO 2012하전입자빔 생성에 사용되는 타겟 구조체, 그 제조 방법 및 이를 이용한 의료 기구가 제공된다. 이 타겟 구조체는 타겟층, 그리고 레이저 빔 또는 하전입자 빔의 진행 경로로 사용되는 관통홀을 갖는 지지체를 포함한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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