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流体噴射装置およびその制御方法、並びに手術装置
专利权人:
SEIKO EPSON CORP
发明人:
KOJIMA HIDEKI,小島 英揮
申请号:
JP2011014860
公开号:
JP2012152423A
申请日:
2011.01.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce, by a simple configuration, the outflow of fluid when a pulse injection stops.SOLUTION: There is provided a method for controlling a fluid injection device including: a fluid chamber a volume variation part for varying the volume of the fluid chamber a fluid supply part for supplying fluid to the fluid chamber and a connection flowpath for communicating the fluid chamber with a fluid injection opening. The method includes: steps of S150, S160 for setting a supply flow rate of fluid of the fluid supply part as a predetermined flow rate, and injecting fluid in a pulse form from the fluid injection opening by varying the volume of the fluid chamber by actuating the volume variation part and steps of S180, S190 for stopping volume variation by the volume variation part, and reducing the supply flow rate of fluid at the fluid supply part to lower than the predetermined flow rate.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】パルス流噴射の停止時における流体の流出を、簡単な構成で低減する。【解決手段】流体室と、前記流体室の容積を変更する容積変更部と、前記流体室に流体を供給する流体供給部と、前記流体室を流体噴射開口部に連通する接続流路とを備える流体噴射装置の制御方法であって、前記流体供給部の流体の供給流量を所定の流量とし、前記容積変更部を動作させて前記流体室の容積を変更することによって、前記流体噴射開口部から前記流体をパルス状に噴射させるステップS150、S160と、前記容積変更部による容積の変更を停止させるとともに、前記流体供給部による流体の供給流量を前記所定の流量よりも減少させるステップS180、S190とを備える。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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