二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉及制备方法及用途
- 专利权人:
- 中国医学科学院生物医学工程研究所
- 发明人:
- 刘天军,王玉茂,武莉,吕丰
- 申请号：
- CN201010135433.X
- 公开号：
- CN101805362B
- 申请日:
- 2010.03.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉及制备方法及用途，二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉，具有下述结构(I)：本发明的二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉水溶性好，且具有较高的驰豫效应，本发明的各个二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉经过发明人进行大量摸索都可以在临床MRI呈像中有很高的增强作用，同时具有较强的荧光量子产率，在荧光呈像中有很强的荧光效应，具有广阔的应用前景，可应用于非线性光电材料，磁共振呈像诊断，荧光分子探针等领域。本发明的二乙撑三胺五乙酸钆修饰的卟啉造影剂的制备方法简洁易于操作。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
