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一种二氧化硅超声成像造影材料的制备方法
专利权人:
上海师范大学
发明人:
杨仕平,胡鹤,周宏,杨红,李雪健,刘国华
申请号:
CN201010613916.6
公开号:
CN102068706B
申请日:
2010.12.30
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及一种二氧化硅超声成像造影材料的制备方法,利用硬模板,在水醇体系中,水解非功能化硅源和带有氨基的功能化硅源,从而得到表面带氨基的硅球,萃取除去硬模板,得到粒径非常均一中空的表面带氨基的SiO2球;再通过其表面的氨基与聚乙二醇(PEG)羧基相偶合进行表面修饰,便可以在其表面修饰上生物相容性很好的聚乙二醇,得到分散性和生物相容性很好,具有宜的空腔尺寸和壳层厚度,可适用于超声成像的SiO2超声成像造影材料。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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