一种含纳米二氧化铈的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法
- 专利权人:
- 王淑芳
- 发明人:
- 王淑芳
- 申请号:
- CN201610961482.6
- 公开号:
- CN106563165A
- 申请日:
- 2016.11.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明涉及一种含纳米二氧化铈的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法,通过液相还原反应制得纳米二氧化铈,将其与胶原‑羟基磷灰石溶液混合均匀后一步法冻干并交联制备获得,其中纳米二氧化铈的浓度范围为10ug/ml‑50ug/ml,纳米二氧化铈粒子的粒径为10‑30nm。本发明的支架所需材料简单,无需复杂的技术要求和高端的设备需求,成本低,易于推广,为创面提供了合理的纳米二氧化铈缓释体系,为创面提供长期有效的药物缓释,保持创面的药物浓度均衡有效且不过剩。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心