TADA HIROYUKI,多田 浩幸,HANE TADASHI,羽根 義,YAMAGUCHI HAJIME,山口 一,NASU MAMORU,那須 守
申请号：
JP2010136159
公开号：
JP2012000028A
申请日:
2010.06.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To give the whole plant uniformed air flows, and to cultivate the plant while eliminating unevenness of growth.SOLUTION: The facility cultivates the plant P in a room R in which growth environment is controlled. The plant cultivation facility 1 includes: a cultivation bed 2 for cultivating the plant； a cultivation panel 3 in which a plurality of vents 3b are formed in the thickness direction, which can be stacked onto the cultivation bed with a gap D； and an air conditioning mechanism 4 for feeding air to the gap defined between the cultivation bed and the cultivation panel.【課題】植物全体に均一な気流を与えることができ、育成ムラをなくしながら植物を栽培すること。【解決手段】育成環境が制御された室内Ｒで植物Ｐを栽培する施設であって、植物が栽培される栽培床２と、複数の通気用孔３ｂが厚さ方向に形成され、栽培床上に隙間Ｄを開けて重ねられる栽培パネル３と、栽培床と栽培パネルとの間に画成された隙間に気体を送り込む空調機構４と、を備えている植物栽培施設１を提供する。【選択図】図１
