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スルホン酸塩型界面活性剤および/または硫酸塩型アニオン界面活性剤、ならびに複素環化合物を含む洗浄剤組成物
专利权人:
AJINOMOTO CO.; INC.
发明人:
INO, Masahiro,伊能 正浩
申请号:
JPJP2013/075770
公开号:
WO2014/046290A1
申请日:
2013.09.24
申请国别(地区):
WO
年份:
2014
代理人:
摘要:
A cleansing agent composition comprising: (A) a sulfonate-type surfactant and/or a sulfate-type anionic surfactant and (B) a heterocyclic compound represented by formula (1) (wherein R1 and R2 independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group or a hydroxyethyl group). The cleansing agent composition has high cleansing performance and a low irritating property, can prevent skin from being dried out after the skin is cleaned with the composition and then dried, and can be used suitably in a cosmetic product.Linvention concerne une composition à base dagent nettoyant qui comporte : (A) un tensioactif de type sulfonate et/ou un tensioactif anionique de type sulfate (B) un composé hétérocyclique représenté par la formule (1) (R1 et R2 représentant indépendamment un atome dhydrogène, un groupe méthyle, un groupe hydroxyméthyle ou un groupe hydroxyéthyle). La composition à base dagent nettoyant possède un pouvoir nettoyant élevé et une faible propriété irritante, peut empêcher que la peau ne se dessèche après avoir été nettoyée avec la composition puis séchée, et peut être utilisée de façon appropriée dans un produit cosmétique.(A)スルホン酸塩型界面活性剤および/または硫酸塩型アニオン界面活性剤、ならびに (B)式(1)で表わされる複素環化合物 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、またはヒドロキシエチル基を示す。) を含有する洗浄剤組成物は、洗浄力が高く、低刺激であり、かつ、洗浄し乾燥した後に肌のかさつきを抑えることができ、化粧料に好適に使用することができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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