您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

中空ストラットを有するステントの製造方法
专利权人:
メドトロニック ヴァスキュラー インコーポレイテッド
发明人:
ストーメント クリストファー
申请号:
JP2013519778
公开号:
JP2013537440A
申请日:
2011.07.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
A stent having a hollow strut is formed on the cylindrical substrate. The stent struts are formed by electroforming the metal layer of the stratum into the opening formed in the patterned photoresist material. A first metal layer (106) forming an internal strut material is formed in the opening of the first photoresist material. A sacrificial material that forms a cavity (126) to hollow the struts is formed in the opening of the second photoresist material. A second metal layer (122) forming the sidewalls and outer walls of the stratum is formed around the opening of the third photoresist material and around the sacrificial material. The photoresist material is removed. The cavity and sacrificial material of the substrate are removed so that a hollow strut is formed in the stent pattern. The hollow strut can satisfy the eluting treatment material. An opening (124) passing through the struts through the cavity is formed in the above described processCan be formed.中空のストラットを有するステントは、円筒形基材上で形成される。前記ステントのストラットは、パターン化されたフォトレジスト材料に形成された開口部の中にストラットの金属層を電鋳することにより形成される。内部ストラット材料を形成する第1金属層(106)は、第1フォトレジスト材料の開口部の中で形成される。ストラットを中空にするキャビティ(126)を形成する犠牲材料は、第2フォトレジスト材料の開口部の中で形成される。ストラットの側壁および外壁を形成する第2金属層(122)は、第3フォトレジスト材料の開口部の中と犠牲材料の周囲で形成される。フォトレジスト材料は除去される。基材のキャビティおよび犠牲材料は除去され、中空のストラットがステントパターンの中に形成されるようにする。中空ストラットには溶出用治療物質を満たすことができる。ストラットを貫通してキャビティに通じる開口部(124)は、前記形成過程で形成され得る。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充