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美容方法
专利权人:
SHISEIDO COMPANY; LTD.
发明人:
KIMURA, TOMOKO,木村朋子,KANNO, NAOMI,菅野直美,YAMAKI, SATOSHI,八卷悟史
申请号:
TW102136941
公开号:
TWI603746B
申请日:
2013.10.14
申请国别(地区):
TW
年份:
2017
代理人:
摘要:
This invention provides a cosmetic method, which exhibits excellent effect in correcting unevenness, and a make-up cosmetic material that and/or a sun care cosmetic material can be easily removed. The cosmetic method has the following steps: a step to attach a base film surface of a thin-film onto the skin, a step to remove a supporting member attached to the thin-film, and a step to coat a make-up cosmetic material and/or a sun care cosmetic material onto the skin, wherein the film thickness of the base film and supporting member contained in the thin-film is 10 to 500nm.本發明提供一種美容方法,其是凹凸之修補效果優異,並可容易卸除上妝化妝料及/或防曬化妝料的美容方法。本發明的美容方法包含下述步驟:在皮膚上黏貼薄膜的基材膜面之步驟、除去黏貼有薄膜的支撐物之步驟,以及在該皮膚上塗布上妝化妝料及/或防曬化妝料之步驟,其中,薄膜包含膜厚10至500nm的基材膜與支撐物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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