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アパタイト薄膜形成方法
专利权人:
NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
发明人:
AKAZAWA MASAYOSHI,赤澤 方省,UENO YUKO,上野 祐子
申请号:
JP2013181964
公开号:
JP2015048284A
申请日:
2013.09.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate formation of an apatite thin film composed of hydroxyapatite in a stable condition while suppressing increase of costs.SOLUTION: A method of forming an apatite thin film comprises forming an apatite thin film 103 composed of hydroxyapatite on a sacrifice layer 102 and removing the sacrifice layer 102 between a substrate 101 and the apatite thin film 103 by dissolving in water to separate the apatite thin film 103 from the substrate 101. More specifically, the substrate 101 formed with the apatite thin film 103 is immersed in pure water.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】安定した状態でかつコストの上昇を抑制した状態で、ハイドロキシアパタイトからなるアパタイト薄膜が容易に形成できるようにする。【解決手段】犠牲層102の上に、ハイドロキシアパタイトからなるアパタイト薄膜103を形成した後、基板101とアパタイト薄膜103との間の犠牲層102を水に溶解させることで除去し、アパタイト薄膜103を基板101より分離する。例えば、アパタイト薄膜103を形成した基板101を、純水中に浸漬する。【選択図】 図1E
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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