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用于辐照规划的方法和辐照规划装置
专利权人:
西门子公司
发明人:
A.格默尔,E.里泽尔
申请号:
CN201210105006.6
公开号:
CN102728006A
申请日:
2012.04.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于粒子治疗辐照流程的辐照规划的方法,其中沿着多个在射线方向上先后布置的等能量层(13,15,17,18)来施加剂量,包括以下步骤:规定待辐照的目标体积(11),确定最近侧的等能量层(13)关于待辐照的目标体积(11)的第一位置,在使用第一位置的条件下确定在该最近侧的等能量层(13)的远侧的至少另一个等能量层(17,18)关于待辐照的目标体积(11)的第二位置。此外,本发明还涉及一种相应的辐照规划装置。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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