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GEL NAIL POLISHES AS WELL AS METHODS OF THEIR PRODUCTION AND USE
专利权人:
リジュアン チェン;ZHEN LIJUAN
发明人:
ZHEN LIJUAN,リジュアン チェン
申请号:
JP2016165707
公开号:
JP2017061446A
申请日:
2016.08.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide gel nail polish compositions which can form a nail polish in a short time without a complicated formation process and removing process and which contains a gel nail polish mixture and a coloring agent to be mixed with the mixture in order to form a gel nail polish layer on the nail of a user.SOLUTION: A gel nail polish mixture contains aliphatic urethane acrylate as an oligomer ingredient, polymer acrylate oligomer as a monomer diluent, propoxylated neopentyl glycol diacrylate and methyl benzoyl diphenylphosphine oxide as photopolymerization initiator, and a coloring agent, and can be dried by exposure to one of LED light, UV light and sunlight. The gel nail polish layer formed on the nail can be removed by directly wiping off using cloth, cotton, or tissue paper with a nail polish remover.SELECTED DRAWING: None【課題】複雑な形成プロセスと除去プロセスを有せず、短時間でネイルポリッシュを形成できる、ユーザの爪の上にジェルネイルポリッシュ層を形成するためにジェルネイルポリッシュ混合物及びそれと混合される着色剤を含む、ジェルネイルポリッシュ組成物の提供。【解決手段】ジェルネイルポリッシュ混合物はオリゴマー成分として脂肪族ウレタンアクリレート、モノマー希釈剤としてポリマーアクリレートオリゴマー、また光重合開始剤としてプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、更に着色剤を含み、LED光、UV光、及び太陽光のうちの1つにあてて乾かすことができる、ジェルネイルポリッシュ組成物。また爪の上に形成されたジェルネイルポリッシュ層は、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパを用いることによって直接拭き取ることによって除去される。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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