一种祛痘修复化妆品制剂及其制备方法
- 专利权人:
- 佛山天韵化妆品科技有限公司
- 发明人:
- 涂正松,乐玄晖
- 申请号：
- CN202011154796.8
- 公开号：
- CN112043650A
- 申请日:
- 2020.10.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种祛痘修复化妆品制剂及其制备方法。所述祛痘修复组合物主要含有：赤松(PINUS DENSSIFLORA)叶提取物、欧洲越桔(VACCINIUM MYRTILLUS)提取物、苦参(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物、母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物。能够有效抑制痤疮丙酸杆菌的活性，控制油脂过度分泌，对于因长痘而造成的肌肤受损起到一定的修复作用。将其作为活性成分添加到化妆品可起到良好的祛痘修复功效。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
