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清洁剂
专利权人:
花王株式会社
发明人:
山崎直幸
申请号:
CN201980038226.1
公开号:
CN112236129A
申请日:
2019.06.10
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明提供一种清洁剂,其含有或配合(A)阴离子表面活性剂;(B)满足下述式(I)的含有聚氧化烯结构的氨基聚醚改性硅酮;及(C)有机酸而成,且成分(A)与成分(B)的质量比(A)/(B)小于25,成分(A)与成分(C)的质量比(A)/(C)为30以上3000以下,0.01≦Si/AO≦1.6 (I)式(I)中,Si表示成分(B)中的硅原子的摩尔数,AO表示成分(B)中的氧化烯烃平均加成摩尔数。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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