地盤改良体施工方法、地盤改良装置及び地盤改良底盤
- 专利权人:
- 株式会社竹中工務店
- 发明人:
- 樋原 達夫,清水 孝昭,中島 朋宏,大西 直宏
- 申请号：
- JP20150146569
- 公开号：
- JP2017025624(A)
- 申请日:
- 2015.07.24
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成する。【解決手段】水と反応してゲル化する主薬液ＥＡを対象地盤１２が割裂しない注入圧力で対象地盤１２に横方向に卓越させて浸透注入させることで、対象地盤１２に上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体５０を形成する。【選択図】図２
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
