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Methods and systems for surface modification of substrates for ion beam targets
专利权人:
뉴트론 쎄라퓨틱스 인코포레이티드;사카세 타카오;길레스피 조셉;스믹 노아;파크 윌리엄 에이치. 주니어;램버트 마크
发明人:
파크 윌리엄 에이치. 주니어,램버트 마크,길레스피 조셉,스믹 노아,사카세 타카오
申请号:
KR1020197037080
公开号:
KR1020200015561A
申请日:
2017.06.05
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
Methods for designing and manufacturing neutron generating targets are described. In some embodiments, the surface of the target substrate can be modified to form one or more surface features. In some embodiments, the neutral resource layer can be disposed on the surface of the target substrate. In some embodiments, the neutral resource layer and the target substrate can be heated to elevated temperatures to form a bond between them. In some embodiments, surface modification of the target substrate can reduce blistering and material delamination at the target. The target can be used for boron neutron capture therapy.중성자 발생 타겟의 설계 및 제조 방법이 기술된다. 일부 구현예에서, 타겟 기재의 표면은 하나 이상의 표면 피처를 형성하도록 개질될 수 있다. 일부 구현예에서, 중성자원 층은 타겟 기재의 표면 상에 배치될 수 있다. 일부 구현예에서, 중성자원 층 및 타겟 기재는 이들 둘 사이의 결합을 형성하도록 상승된 온도로 가열될 수 있다. 일부 구현예에서, 타겟 기재의 표면 개질은 타겟에서의 블리스터링 및 재료 박리를 감소시킬 수 있다. 상기 타겟은 붕소 중성자 포획 요법에 사용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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