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一种正畸X线头影测量相对线距分析法
专利权人:
上海交通大学医学院附属第九人民医院
发明人:
陈昱,刘加强,孙仪庭,王天鸽,林怡君,周志捷
申请号:
CN201910412146.X
公开号:
CN110115595A
申请日:
2019.17.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明公开了一种正畸X线头影测量相对线距分析法,该分析方法包含以下步骤:步骤1:在X线头颅定位侧位照相所得影像上选取标志点及基准平面,并仅进行线距测量;步骤2:计算所得线距与身高或全颅底长的百分比,得到相对线距。本发明能够最大程度消除个体差异对X线头影测量长度指标的影响,使相关长度指标更准确地反映患者的临床情况,更准确地指导正畸及正颌诊治过程。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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