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粒子線治療システム
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
TAKIZAWA KENICHI,滝沢 賢一,MURATA TOMOTAKA,村田 朋貴
申请号:
JP2016042740
公开号:
JP2017153910A
申请日:
2016.03.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle ray treatment system excellent in maintenance property and has a simple mechanism.SOLUTION: Radiation devices 10a, 10b respectively comprise plural radiation ports 102a, 102b, 102c for radiating a particle ray from plural directions to a target. A radiation nozzle part 105 of the radiation devices 10a, 10b can move between the plural radiation ports 102a, 102b, 102c, and a cover structure 107 which is fixed, is provided between the plural radiation ports 102a, 102b, 102c and the radiation nozzle part 105. The cover structure 107 has a slit 110 through which the radiation nozzle part 105 moves.SELECTED DRAWING: Figure 5COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】機構が簡略で、メンテナンス性に優れた粒子線治療システムを提供する。【解決手段】照射装置10a,10bは、各々が標的に対して複数の方向から粒子線を照射するための照射ポート102a,102b,102cを複数有している。また、照射装置10a,10bの照射ノズル部105は、複数の照射ポート102a,102b,102c間を移動可能であり、複数の照射ポート102a,102b,102cと照射ノズル部105との間に、固定されたカバー構造107が設けられている。また、カバー構造107は、照射ノズル部105が移動するためのスリット110を有している。【選択図】 図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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