A composition for removing nail polish from a surface, said composition comprising: (i) a solvent And (ii) a gelling agent, wherein the manicure is at least partially soluble in the solvent, the gelling agent forms a gel matrix, and the solvent is contained in the gel matrix.표면으로부터 매니큐어를 제거하기 위한 조성물로, 상기 조성물은 (i) 용매 및 (ii) 겔화제를 포함하고, 상기 매니큐어는 상기 용매에 적어도 부분적으로 가용성이고, 상기 겔화제는 겔 매트릭스를 형성하고, 상기 용매는 상기 겔 매트릭스 내에 포함된다.