The invention of artificial joints for polymeric materials, in particular for the improvement of wear resistance for ultra-high molecular weight polyethylene, solid ion be designed to efficiently inject the ions into the surface of the above polymeric material, the synchronized pulse voltage is applied to the magnetron (magnetron) method that allows the injection of a plasma in the form of solid elemental ions by using a sputtering evaporation source and the high voltage pulse and relates to the device. Operating in pulse mode using the pulsed DC power supply is excellent in biocompatibility as a magnetron sputtering evaporation source was being used as an evaporation source equipped inside the sample is introduced into the ion sputtering evaporation source of an element capable of forming a ceramic particles for the conventional film deposition and, by applying a high voltage pulse to the sample this synchronization is to accelerate the ions generated from the magnetron sputtering evaporation source of the pulse mode, allows the ion implantation on the surface of the sample. On by, a solid element plasma ion implantation method of this invention, the pulse by using a magnetron sputtering evaporation source and a synchronized high voltage pulses, and can be efficiently ion implantation ion to the solid surface of the material, because of this wear resistance of the material for an artificial joint can be implemented to improve.본 발명은 인공 관절용 고분자 소재, 특히 초고분자량 폴리에틸렌의 내마모성 향상을 위한 것으로, 고체 이온을 위 고분자 소재의 표면에 효율적으로 이온 주입하기 위하여 고안된 것으로, 동기화된 펄스전압이 인가된 마그네트론(magnetron) 스퍼터링 증착원과 고전압 펄스를 이용함으로써 고체 원소 이온의 플라즈마 형태로의 주입을 가능하게 하는 방법 및 그 장치에 관한 것이다.종래 박막증착을 위한 증착원으로서 이용되고 있었던 마그네트론 스퍼터링 증착원으로서 생체적합성이 뛰어나고 시료 내부로 이온주입되어 세라믹 입자를 형성할 수 있는 원소의 스퍼터링 증착원을 장착하여 펄스직류 전원을 이용한 펄스 모드로 작동하고, 이와 동기화된 고전압 펄스를 시료에 인가함으로써 펄스 모드의 마그네트론 스퍼터링 증착원으로부터 발생된 이온을 가속하여 시료의 표면에 이온주입을 할 수 있게 한다. 본 발명에 의한, 고체 원소 플라즈마 이온주입 방법은, 펄스 마그네트론 스퍼터링 증착원과 동기화된 고전압 펄스를 이용함으로써, 소재의 표면에 고체 이온을 효율적으로 이온 주입할 수 있으며, 이로 인하여 인
