加成‑断裂低聚物
- 专利权人:
- 3M创新有限公司
- 发明人:
- W·H·莫泽,A·R·弗诺夫,G·D·乔利,S·尤特,L·R·克雷普斯基,A·S·阿比尔雅曼,A·法尔萨菲,B·D·克雷格,J·D·奥克斯曼,B·N·加达姆
- 申请号：
- CN201680010700.6
- 公开号：
- CN107406723A
- 申请日:
- 2016.01.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明描述了应用于牙科用修复剂、薄膜、硬质涂层、复合材料、粘合剂和其它经受应力减小的用途的新型应力减小的交联低聚物。交联的加成‑断裂过程引起了链转移的结果，这提供了可另外官能化的新型聚合物。此外，加成‑断裂低聚物包含通过形成离子键或共价键粘结到基底或通过从基底中化学去除一些材料来蚀刻基底的侧基官能团。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
