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속용성을 갖는 키토산을 포함하는 피부 리프팅용 화장조성물
专利权人:
SON; MI KYUNG
发明人:
SON, MI KYUNGKR,손미경,PARK, SOON YOUNGKR,박순영
申请号:
KR1020150131034
公开号:
KR1020150132039A
申请日:
2015.09.16
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to a cosmetic composition suitable for lifting the skin, comprising chitosan having rapidly dissolving properties in an undissolved state. The composition does not comprise a preservative, a surfactant, etc., which can impose burden or adverse effects on the skin, by being dissolved before being used by a user. The composition comprises: 0.5-6.0 wt% of chitosan having rapidly dissolving properties dissolved with a dissolution rate in the range of 1-15 minutes in a solvent having a degree of deacetylation (DA) in the range of 80-100% and a pH in the range of 3.5-7.5 and a solvent having a pH in the range of 3.5-7.5 as a residual amount. The chitosan is contained in an undissolved state by being physically separated from the solvent.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명은 속용성을 갖는 키토산을 미용해 상태로 포함하며, 사용 직전에 사용자에 의해 용해시켜 사용토록 함으로써 피부에 부담 내지는 악영향을 줄 수 있는 방부제와 계면활성제 등을 포함하지 않으며, 피부 리프팅용으로 적절한 화장조성물에 관한 것으로서, 80 내지 100%의 범위 이내의 탈아세틸화도(DA: Degree of Deacetylation) 및 3.5 내지 7.5의 범위 이내의 pH를 갖는 용매에서 1 내지 15분의 범위 이내의 용해속도로 용해되는 속용성을 갖는 키토산 0.5 내지 6.0중량% 및 잔량으로서 3.5 내지 7.5의 범위 이내의 pH를 갖는 용매를 포함하되, 상기 키토산이 상기 용매로부터 물리적으로 분리되어 용해되어 있지 않은 상태로 포함됨을 특징으로 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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