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毛髮化粧料
专利权人:
KAO CORPORATION
发明人:
YOSHIDA, HIROSHI,吉田宽,吉田寬,SAKAI, YUTA,坂井优太,坂井優太,HIRAYAMA, MASUTARO,平山益太郎,KOMABA, SHINGO,驹场真吾,駒場真吾
申请号:
TW107141269
公开号:
TW201922215A
申请日:
2018.11.20
申请国别(地区):
TW
年份:
2019
代理人:
摘要:
This hair cosmetic which comprises components (A)-(E), wherein the mass ratio (A)/(E) of component (A) with respect to component (E) is not less than 0.05 but less than 2. (A) A compound represented by general formula (1), or a salt thereof. (1) [In the formula, the broken line represents presence or absence of a [pi] bond, R1 represents a hydroxyl group or an acetoxy group, R2 represents a hydrogen atom or -COOR (R represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group), and R3 represents a hydrogen atom, an acetyl group, a methyl group, or an ethyl group.] (B) Alkaline agent (C) Buffer (D) Anionic surfactant (E) Cationic polymer having a cationic charge density of 0.01-4.8 meq/g.本發明係一種毛髪化妝料,其含有下述成分(A)~(E),且成分(A)相對於成分(E)之質量比(A)/(E)為0.05以上且未達2。(A)下述通式(1)所表示之化合物或其鹽[式中,虛線表示存在或不存在π鍵;R1表示羥基或乙醯氧基;R2表示氫原子、或-COOR(R為氫原子、甲基或乙基);R3表示氫原子、乙醯基、甲基或乙基](B)鹼劑(C)緩衝劑(D)陰離子性界面活性劑(E)陽離子電荷密度為0.01 meq/g以上且4.8 meq/g以下之陽離子性聚合物
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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