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自动确定多个X射线源的X射线辐射的谱分布
- 专利权人:
- 西门子公司
- 发明人:
- T.奥尔门丁格,T.弗洛尔,B.施密特
- 申请号：
- CN201380042474.6
- 公开号：
- CN104519800B
- 申请日:
- 2013.09.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于自动确定计算机断层成像系统(10)的多个X射线源(100a,100b)的X射线辐射(R1,R2)的谱分布的方法。在此首先确定X射线源(100a,100b)的起始控制参数(ANORM,UNORM),其确定X射线辐射的剂量和谱分布。然后基于X射线辐射(R1,R2)通过检查对象(O)的预计衰减,从起始控制参数(ANORM,UNORM)出发,确定特定于检查对象的基本控制参数(APAT)。然后基于X射线辐射(R1,R2)通过检查对象(O)的预计衰减和基本控制参数(APAT),确定第一目标控制参数(AMES1,UMES1)和第二目标控制参数(AMES2,UMES2),用于设置在随后的对检查对象(O)的多能量测量中的X射线辐射(R1,R2)的谱分布。此外描述了一种用于运行计算机断层成像系统(10)的方法、一种用于计算机断层成像系统(10)的为此合适的控制装置(200)以及一种具有这样的控制装置(200)的计算机断层成像系统(10)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
