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COMPOSITIONS DE SOIN PERSONNEL COMPRENANT DES DÉRIVÉS D'AMIDES D'ACIDE GRAS
专利权人:
UNILEVER N.V.;CONOPCO, INC., D/B/A UNILEVER;UNILEVER PLC
发明人:
AU, Van,HARICHIAN, Bijan,MARRERO, Diana
申请号:
EPEP2017/064354
公开号:
WO2018/019463A1
申请日:
2017.06.13
申请国别(地区):
EP
年份:
2018
代理人:
摘要:
In one embodiment, the present invention provides a personal care composition, comprising: (i) a compound of Formula (1) at a concentration from 0.0001 wt % to 20 wt % of the composition; wherein R is selected from the group consisting of C15-C23 conjugated dienes, C15-C23 hydroxylated mono unsaturated alkenes, and C15-C23 hydroxylated alkanes; wherein R1 is selected from the group consisting of H, C1-C4 alkyl, - CH2OH, -CH2(CH3)-OH,-[CH2]4-NH2, -CH2-CO2H, -[CH2]2-CO2H, (I), (II) and (III); wherein R3 is -CO2H; -CH2CO2H; -CH2CH2CO2H;; and (ii) a cosmetically acceptable carrier.Dans un mode de réalisation, la présente invention concerne une composition de soin personnel, comprenant : (i) un composé de formule (1) en une concentration de 0,0001 % en poids à 20 % en poids de la composition ; dans laquelle R est choisi dans le groupe constitué par les diènes conjugués en C15-C23, les alcènes hydroxylés, monoinsaturés en C15-C23 et les alcanes hydroxylés en C15-C23 ; R1 est choisi dans le groupe constitué par H, C1-C4-alkyle, -CH2OH, -CH2(CH3)-OH, -[CH2]4-NH2, -CH2-CO2H, -[CH2]2-CO2H, (I), (II) et (III) ; R3 représente -CO2H ; -CH2CO2H ; -CH2CH2CO2H ; et (ii) un support cosmétiquement acceptable.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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