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VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM VORBEREITEN ODER BEARBEITEN EINES VON EINEM GASFÖRMIGEN MEDIUM UMSCHLOSSENEN PROZESSGUTES MITHILFE ELEKTRISCHER ENTLADUNGEN
专利权人:
TECHNISCHE UNIVERSITAET ILMENAU
发明人:
LEU, CARSTEN,LEU, Carsten,GOSSEL, STEFAN,GOSSEL, Stefan
申请号:
EPEP2011/071031
公开号:
WO2012/069632A1
申请日:
2011.11.25
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Vorbereiten oder Bearbeiten von Prozessgut, insbesondere biologischem Prozessgut. Mit der vorliegenden Erfindung werden ein verbessertes und energieeffizienteres Verfahren und eine zugehörige Vorrichtung zur Zerstörung bzw. zum Aufschluss der Oberfläche und/oder der Zellen von Biomasse im weitesten Sinne (Prozessgut) zur schnelleren Freisetzung und effektiveren Verwertung der Inhaltsstoffe bereitgestellt. Erfindungsgemäß wird das Prozessgut kanalförmigen, energiearmen elektrischen Gasentladungen bzw. physikalischen Plasmen ausgesetzt. Durch den inneren Entladungsdruck wird ein effizienter Aufschluss bzw. die Zerstörung der Oberfläche/Zellen erzielt. Dabei werden die elektrischen Gasentladungen bzw. physikalischen Plasmen von einer Hochspannung mit hoher Frequenz verursacht, die von einer Vorrichtung durch die vorzugsweise resonante magnetische Kopplung von mindestens zwei elektrischen Schwingkreisen erzeugt wird.The invention relates to a method and to an apparatus for preparing or processing process material, in particular biological process material. The present invention provides an improved and more energy-efficient method and an associated apparatus for destroying or disintegrating the surface and/or the cells of biomasses in the broadest sense (process material) for more rapid liberation and more effective recovery of the contents. According to the invention, the process material is exposed to channel-like, low-energy electrical gas discharges or physical plasma. Efficient disintegration or destruction of the surface/cells is achieved on account of the internal discharge pressure. In the process, the electrical gas discharges or physical plasma are caused by a high voltage with a high frequency, this voltage being generated by an apparatus by the preferably resonant magnetic coupling of at least two electrical resonant circuits.Linvention concerne un procédé et un dispositif destinés à traiter ou us
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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