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受控的机架不平衡
专利权人:
皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人:
R·B·夏普莱斯
申请号:
CN200980143818.6
公开号:
CN102202577B
申请日:
2009.10.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
一种成像系统,包括静止框架(104)和可绕枢轴转动的框架(106),可绕枢轴转动的框架可绕枢轴转动地附接到所述静止框架(104)并被配置成关于横轴(108)绕枢轴转动。旋转框架(110),所述旋转框架由可绕枢轴转动部分(106)可旋转地支撑并被配置成关于纵轴(114)绕检查区域(112)旋转,以及旋转框架平衡器(118)有选择地引入旋转框架质量不平衡。辐射源(116)固定到所述旋转框架(110)并从焦斑发射辐射,其中,所述辐射贯穿所述检查区域(112)。探测器阵列(128)探测贯穿所述检查区域(112)的辐射并生成指示所述辐射的信号。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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