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OXYDE DE ZINC ENDUIT D'OXYDE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ POUR LE PRÉPARER, COMPOSITION CONTENANT DE L'OXYDE DE ZINC ENDUIT D'OXYDE DE SILICIUM, ET MATÉRIAU COSMÉTIQUE CONTENANT DE L'OXYDE DE ZINC ENDUIT D'OXYDE DE SILICIUM
专利权人:
LTD.;住友大阪セメント株式会社;SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD.;SUMITOMO OSAKA CEMENT CO.
发明人:
SUMA Syunsuke,須磨 俊輔,ITAGAKI Tetsuro,板垣 哲朗,MATSUSHITA Hirokazu,松下 浩和,須磨 俊輔,板垣 哲朗,松下 浩和
申请号:
JPJP2015/081720
公开号:
WO2016/076350A1
申请日:
2015.11.11
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention provides: a silicon oxide-coated zinc oxide in which the elution of zinc ions is suppressed even when the zinc oxide is coated with silica formed from an alkali metal silicate salt; a method for preparing the same; and a composition and a cosmetic material which contain the silicon oxide-coated zinc oxide. This silicon oxide-coated zinc oxide is formed by coating the surfaces of zinc oxide particles with a silicon oxide film, wherein the average primary particle diameter of the zinc oxide particles is over 50 nm to 500 nm, and when the silicon oxide-coated zinc oxide is kept for one hour in a buffer solution having a pH of 5, the elution rate S, defined by equation (1), of zinc oxide is 50% or less. (1) Elution rate S = (amount of eluted zinc oxide)/(amount of zinc oxide in silicon oxide-coated zinc oxide).La présente invention concerne : de l'oxyde de zinc enduit d'oxyde de silicium dans lequel l'élution des ions zinc est supprimée même lorsque l'oxyde de zinc est enduit de silice formée d'un sel silicate de métal alcalin ; un procédé pour le préparer ; et une composition et un matériau cosmétique qui contient l'oxyde de zinc enduit d'oxyde de silicium. Cet oxyde de zinc enduit d'oxyde de silicium est formé par revêtement des surfaces de particules d'oxyde de zinc avec des films d'oxyde de silicium, de sorte que le diamètre moyen des particules primaires des particules d'oxyde de zinc excède 50 nm à 500 nm, et lorsque l'oxyde de zinc enduit d'oxyde de silicium est maintenu durant une heure dans une solution tampon de pH = 5, la vitesse d'élution S de l'oxyde de zinc est de 50 % ou moins, la vitesse d'élution S étant exprimée par l'équation suivante (1). Vitesse d'élution S = (la quantité d'oxyde de zinc élué)/(la quantité d'oxyde de zinc dans l'oxyde de zinc enduit d'oxyde de silicium)・・・(1).本発明により、ケイ酸アルカリ金属塩で形成されたシリカ被膜であっても、亜鉛イオンの溶出が抑制された酸化ケイ素被覆酸化亜鉛とその製造方法および酸化ケイ素被覆酸化亜鉛含有組成物並びに化粧料が提供される。本発明の酸化ケイ素被覆酸化亜鉛は、酸化亜鉛粒子の表面を酸化ケイ素被膜により被覆してなる酸化ケイ素被覆酸化亜鉛であ
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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