生体吸収性の移植可能な基体

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专利权人:

ザ クイーンズ ユニヴァーシティ オブ ベルファスト

发明人:

ブチャナン, フレイザー, ジェームス

申请号：

JP2006552684

公开号：

JP5022039B2

申请日:

2005.02.10

申请国别(地区):

JP

年份:

2012

代理人:

摘要：

Method of manufacturing an implantable substrate bioabsorbable having comprises the step of exposing to the electron beam irradiation at least a portion, and molecular weight distribution of graded implantable substrate is described. In addition, an implantable substrate bioabsorbable containing bioabsorbable polymer having a molecular weight distribution stepwise over at least a portion of the thickness are also provided. [Selection Figure Figure 2移植可能な基体の少なくとも一部分を電子ビーム照射に曝露させるステップを備える、段階的な分子量分布を有する生体吸収性の移植可能な基体を製造する方法が記載される。また、厚さの少なくとも一部分にわたって段階的な分子量分布を有する生体吸収性ポリマを含む生体吸収性の移植可能な基体をも提供される。【選択図】 図2

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/