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pH PH-SENSITIVE COSMETIC COMPOSITION FOR IMPROVING ACNE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
专利权人:
한국콜마주식회사;KOLMAR KOREA CO., LTD.
发明人:
HONG IN KI,홍인기,LIM CHAE MI,임채미,CHOI JI HEA,최지혜,MOK SO HYEON,목소현
申请号:
KR1020190105991
公开号:
KR1020190114921A
申请日:
2019.08.28
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention relates to a pH-sensitive cosmetic composition for acne improvement and a method for producing the same. The present invention provides the cosmetic composition having excellent acne improving effect and stable formulation and being hypoallergenic, by including a pH-sensitive complex for discharging salicylic acid to the outside only in a specific pH range, wherein the core carries salicylic acid and tea tree oil, and at least one or more of the plurality of through holes carries a pH-sensitive material; and the method for producing the same.본 발명은 여드름 개선을 위한 pH 감응성 화장료 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 코어에는 살리실산 및 티트리 오일이 담지되며, 상기 복수 개의 관통공 중 적어도 어느 하나 이상에는 pH 감응성 물질이 담지되어, 특정 pH 영역에서만 살리실산을 외부로 배출하는 pH 감응성 복합체를 포함함에 따라, 여드름 개선 효과가 우수할 뿐 아니라 피부에 저자극이며, 안정한 제형을 갖는 화장료 조성물 및 이의 제조방법을 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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