AGENT DE TRAITEMENT DE SURFACE POUR UNE SURFACE CONFIGURÉE À PARTIR D'UN MATÉRIAU INORGANIQUE, OUTIL ET DISPOSITIF PRÉSENTANT UNE SURFACE MODIFIÉE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE L'OUTIL ET DU DISPOSITIF

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专利权人:

JSR LIFE SCIENCES CORPORATION;ＪＳＲ株式会社;ＪＳＲライフサイエンス株式会社;JSR CORPORATION

发明人:

HAYASHI, Naoki,林　直樹,ITOOKA, Tomoki,糸岡　朝樹,OMOTE, Shin-ya,表　信也,ISO, Kazuhiro,磯　和宏,林 直樹,糸岡 朝樹,表 信也,磯 和宏

申请号：

JPJP2014/063939

公开号：

WO2014/192731A1

申请日:

2014.05.27

申请国别(地区):

JP

年份:

2014

代理人:

摘要：

To provide a surface treatment agent having excellent peel resistance and excellent effects for suppressing nonspecific adsorption with respect to a surface configured from an inorganic material, a tool and device having a modified surface, and a method for manufacturing the tool and device. A surface treatment agent for a surface configured from an inorganic material, the surface treatment agent including a polymer having the repeating units (A) and (B). (A): A repeating unit including the cationic group represented by formula (1) in a side chain thereof (In formula (1), R1 and R2 are each independently a C1-10 organic group.). (B): A repeating unit including the group represented by formula (2) in a side chain thereof (In formula (2), R3 represents a C2-8 alkanediyl group, R4 represents a hydrogen atom or a C1-40 organic group, and n has a mean value of 1 or greater.).La présente invention concerne un agent de traitement de surface présentant une excellente résistance au pelage et d'excellents effets d'inhibition de l'adsorption non spécifique par rapport à une surface configurée à partir d'un matériau inorganique, un outil et un dispositif comportant une surface modifiée et un procédé de fabrication de l'outil et du dispositif. La présente invention concerne un agent de traitement de surface pour une surface configurée à partir d'un matériau inorganique, l'agent de traitement de surface incluant un polymère comportant les motifs de répétition (A) et (B). (A) : Motif de répétition incluant le groupement cationique représenté par la formule (1) dans l'une de ses chaînes latérales (dans la formule (1), chacun des radicaux R1 et R2 représente indépendamment un groupement organique en C1-10). (B) : Motif de répétition incluant le groupement représenté par la formule (2) dans l'une de ses chaînes latérales (dans la formule (2), R3 représente un groupement alcanediyle en C2-8, R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupement organique en C1-40, et n a une valeur moye

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/