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一种排岩场人工无填充物乱石窖裸地生境修复方法
专利权人:
辽宁排山楼黄金矿业有限责任公司;沈阳绿达生态工程有限公司
发明人:
苑兴伟,梁国海,刘文锋,董晓南,王广南,李传迎,纪建国,杨卫国,纪兆家,原福庆,姜宏锋,张华春,董厚德,王美蠲,温生龙,李俊峰,程光远
申请号:
CN202010453860.6
公开号:
CN111543135A
申请日:
2020.05.26
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明公开了一种排岩场人工无填充物乱石窖裸地生境修复方法,包括(1)边坡整形:将≥35°的边坡进行削坡和均匀整形,削坡整形后的边坡坡度不大于35°;(2)填充物选择:小石砾粒径≤15mm,粗砂碎石粒径≤5mm,有机质粒径≤5mm;(3)填充:按石块大小自下而上先堆砌大石块,逐渐堆砌中石块和小石块,在乱石窖层深1.5m以内,石块空隙内填充小石砾、粗砂碎石和有机质,小石砾、粗砂碎石和有机质的体积比为3:6:1;(4)覆盖客土:均匀覆客土,在客土上直接种植草本和灌木。本发明利用生态学原理,因地制宜,对无填充物乱石窖裸地进行了科学的充填,形成了有利于植物生长的环境;通过适量的覆土,解决了植物生长需要大量客土的难点,节省了大约三分之二的生态修复投资。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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