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石斛育苗方法
专利权人:
深圳市华盛实业股份有限公司
发明人:
陈文,敖静,张云霞
申请号:
CN201611027267.5
公开号:
CN106718875B
申请日:
2016.11.16
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
胡海国
摘要:
本发明公开一种石斛育苗方法,该方法包括:a、将带节的石斛茎段在培养基中培养,诱导腋芽;b、待腋芽生长高度超过1cm时,将芽点切除,诱导丛生芽;c、待众生芽生长达到1cm~2cm时,切割丛生芽,丛生芽进行增值及生根培养,并将切割完丛生芽的原茎段继续在培养基中培养,诱导愈伤组织;d、当愈伤组织形成后,将愈伤组织切割并转入培养基中继续培养,诱导丛生芽;e、将丛生芽转入培养基中增殖培养;f、当丛生芽生长高度达到2cm~3cm时,将其转入培养基中进行生根培养。本发明的技术方案可以有效的增加扩繁数量,从而能生产出大量优质的石斛苗。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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