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PROCÉDÉ AU RAYONS X POUR LA MESURE, LA CARACTÉRISATION ET L'ANALYSE DE STRUCTURES PERIODIQUES
专利权人:
Sigray Inc.
发明人:
申请号:
EP15792865.6
公开号:
EP3143384A1
申请日:
2015.05.15
申请国别(地区):
EP
年份:
2017
代理人:
摘要:
Periodic spatial patterns of x-ray illumination are used to gather information about periodic objects. The structured illumination may be created using the interaction of a coherent or partially coherent x-ray source with a beam splitting grating to create a Talbot interference pattern with periodic structure. The object having periodic structures to be measured is then placed into the structured illumination, and the ensemble of signals from the multiple illumination spots is analyzed to determine various properties of the object and its structures. Applications to x-ray absorption/transmission, small angle x-ray scattering, x-ray fluorescence, x-ray reflectance, and x-ray diffraction are all possible using the method of the invention.Selon l'invention, des motifs spatiaux périodiques de radiographie sont utilisés pour rassembler des informations concernant des objets périodiques. L'éclairage structuré peut être créé à l'aide de l'interaction d'une source de rayons X cohérente ou partiellement cohérente avec un réseau de division de faisceau pour créer un motif d'interférence de Talbot à structure périodique. L'objet ayant des structures périodiques à mesurer est ensuite placé dans l'éclairage structuré, et l'ensemble de signaux provenant des multiples points d'éclairage est analysé pour déterminer diverses propriétés de l'objet et de ses structures. Des applications à l'absorption/la transmission de rayons X, la diffusion de rayons X de petits angles, la fluorescence de rayons X, le facteur de réflexion de rayons X et la diffraction de rayons X sont toutes possibles en utilisant le procédé de l'invention.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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