您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Equipment for scattering correction in X-ray images and methods for scattering correction in X-ray images
专利权人:
コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
发明人:
マーク ハンス‐インゴ
申请号:
JP2020500704
公开号:
JP2020526311A
申请日:
2018.07.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a device for scattering correction in an X-ray image, and the X-ray images 30 and 40 have a superposed structured pattern. The device 1 includes an X-ray image receiving element 10, a pattern removing unit 11, and a first subtraction module 12. The X-ray image receiving element 10 is configured to receive the X-ray images 30 and 40 having the superimposed structured pattern 31. The pattern removing unit 11 is configured to remove the structured pattern 31 from the X-ray images 30 and 40 to generate a pattern-corrected X-ray image 43. The first subtraction module 12 is configured to subtract the pattern-corrected X-ray images 33 and 43 from the X-ray image 40 to generate structured pattern images 32 and 42. The contrast measurement unit 13 is configured to apply a local structural contrast measurement function to the structured pattern images 32 and 42 to generate structural contrast images 34 and 44. The present invention improves the scattering correction of X-ray images.本発明は、X線画像における散乱補正のための装置に関し、X線画像30、40は重畳された構造化パターンを有する。装置1は、X線画像受信要素10、パターン除去部11、及び第1減算モジュール12を有する。X線画像受信要素10は、重畳された構造化パターン31を有するX線画像30、40を受信するように構成される。パターン除去部11は、X線画像30、40から構造化パターン31を除去してパターン補正されたX線画像43を生じるように構成される。第1減算モジュール12は、X線画像40からパターン補正されたX線画像33、43を減算して構造化パターン画像32、42を生じるように構成される。コントラスト測定ユニット13は、構造化パターン画像32、42に局部構造コントラスト測定関数を適用して構造コントラスト画像34、44を生じるように構成される。本発明は、X線画像の散乱補正を改善する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充