一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质
- 专利权人:
- 发明人:
- 常华梅,时贞平
- 申请号：
- CN202211317238.8
- 公开号：
- CN115645259A
- 申请日:
- 2022.10.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本说明书实施例提供一种负压低温等离子创面处理系统、装置和介质，该系统包括：空间模块、等离子模块、负压模块、控制模块，空间模块包括空间大小可调的密闭空间，密闭空间用于放置创面；等离子模块用于生成等离子气体，等离子模块通过柔性管道与空间模块连接，以将等离子气体输送至密闭空间中；负压模块包括风机和排气口，排气口设置在密闭空间的至少一个面上，风机将密闭空间中的气体抽出；控制模块用于生成控制指令，并通过控制指令控制密闭空间、等离子模块和风机的工作参数。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
