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下地化粧料
专利权人:
株式会社ノエビア
发明人:
木崎 寿美子
申请号:
JP2011069765
公开号:
JP5683347B2
申请日:
2011.03.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new foundation cosmetic which can be softly applied to a skin, can be easily subjected to cleansing, and also, suppresses misalignment of a makeup cosmetic applied thereon.SOLUTION: The foundation cosmetic includes pullulan, polyvinylpyrrolidone, monosaccharide and/or oligosaccharide, polyhydric alcohol, ethanol and silicic anhydride, and includes the polyvinylpyrrolidone by 1.5 to 10 pts.mass to 1 pt.mass of the pullulan.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】肌へののりがよく、容易にクレンジングすることができ、かつその上に塗布するメークアップ化粧料のヨレを抑制する、新規の下地化粧料を提供する。【解決手段】本発明の下地化粧料は、プルラン、ポリビニルピロリドン、単糖および/またはオリゴ糖、多価アルコール、エタノール、および無水ケイ酸を含有し、プルラン1質量部に対してポリビニルピロリドンを1.5~10質量部含有する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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