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Method of applying the composition comprising photoactivating the active ingredient and a pharmaceutical composition having a dosage regimen
专利权人:
アフェジ,ファルアド;アフェジ,ファルアド;リショズ,オリビエ
发明人:
アフェジ,ファルアド,リショズ,オリビエ,アフェジ,ファルアド,リショズ,オリビエ
申请号:
JP2016517105
公开号:
JP2016520623A
申请日:
2014.06.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention specifically addresses the problem of resistant pathogens and cancer cells. Provided are methods of applying the composition to a human or non-human individual or object or surface area, and pharmaceutical compositions having a regimen administered to a human or non-human individual. The composition includes a chemically active ingredient for killing or delaying the growth of target cells including pathogens, infected cells and cancer cells. Application of the composition and administration regimen of the composition involve at least one exposure to electromagnetic radiation within a wavelength range, and the chemically active component absorbs within the wavelength range and has a lower limit of 190 nm. To photoactivate the active ingredient.本発明は、特に、耐性病原体および癌細胞の問題に対処する。ヒトもしくは非ヒト個体または物体または表面領域に組成物を適用する方法と、ヒトもしくは非ヒト個体に投与されるレジメンを有する医薬組成物とが提供される。該組成物は、病原体、感染細胞および癌細胞を含む標的細胞を死滅またはその増殖を遅延させるための化学活性成分を含む。組成物の適用および組成物の投与のレジメンは、ある波長範囲内の電磁放射線に少なくとも1回曝露することを伴い、化学活性成分は、該波長範囲内で吸収し、190nmの下限値を有することによって活性成分を光活性化する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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