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日焼け止め化粧料
专利权人:
株式会社ノエビア
发明人:
丹後 弘隆
申请号:
JP2017079246
公开号:
JP6255127B1
申请日:
2017.04.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
Task It is an object to provide a sunscreen cosmetic which exhibits good skin familiarity and exerts a high moisturizing effect.SOLUTION: The sunscreen cosmetic composition of the present invention contains the following (A) to (C).(A) an organic ultraviolet absorber(B) Phytosterol(C) one or more selected from pentylene glycol, isostearyl neopentanoate, quince seed extractSelection drawing None【課題】 肌なじみが良好で、高い保湿効果を発揮する、日焼け止め化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明の日焼け止め化粧料は、下記の(A)~(C)を含有する。(A)有機紫外線吸収剤(B)フィトステロール(C)ペンチレングリコール、ネオペンタン酸イソステアリル、クインスシードエキスから選択される1種又は2種以上【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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