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SYSTÈME D'ÉMANATION ET PROCÉDÉ D'UTILISATION
专利权人:
S.C. JOHNSON & SON; INC.
发明人:
MEIER, Maude, Christian,GAO, Fei,YUHAS, Randy, C.
申请号:
USUS2014/044578
公开号:
WO2014/210461A4
申请日:
2014.06.27
申请国别(地区):
US
年份:
2015
代理人:
摘要:
An emanation system (100) is disclosed that include a substrate (102), a secondary substrate (140), and an air treatment material (106). The secondary substrate (140) is adapted to be wetted with runoff from the air treatment material applied to the substrate (102). When applied, the air treatment material emanates from the substrate (102) at a first release rate and from the secondary substrate (140) at a second release rate.L'invention concerne un système d'émanation (100) qui comprend un substrat (102), un substrat secondaire (140) et un matériau de traitement (106) de l'air. Le substrat secondaire (140) est conçu pour être mouillé par l'écoulement du matériau de traitement de l'air appliqué sur le substrat (102). Lorsqu'il est appliqué, le matériau de traitement de l'air émane du substrat (102), à une première vitesse de libération, et du substrat secondaire (140), à une seconde vitesse de libération.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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