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극돌기 지지용 임플란트
专利权人:
发明人:
엽 충전
申请号:
KR1020070034409
公开号:
KR1013806820000B1
申请日:
2007.04.06
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
spinous process implant support has two holding , each holding has a receiving end and the connection end . Two holding a hand can be rotated are coupled to each other to form an angle in the connection end , each of the receiving end is in contact with the spinous process . The two holding is supported by the foraminal are rotated relative to each other between two adjacent linear because of the treatment of vertebral expand globally .극돌기 지지용 임플란트는 두 개의 지주를 가지며, 각 지주는 수용단부와 연결단부를 갖는다. 두 개의 지주는 각도를 형성하도록 연결단부에서 서로 결합되어 회전할 수 있는 한편, 각 수용단부는 극돌기와 접촉하도록 되어있다. 이 두 개의 지주는 서로에 대하여 회전하여 전체적으로 선형이 되므로 치료중의 두 개의 인접 추골 사이의 추간공이 확장되어 지지된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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