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用于建立辐射规划的方法以及用于施加位置分辨的辐射剂量的方法
专利权人:
GSI亥姆霍兹重离子研究中心有限责任公司
发明人:
C.伯特,R.卢克滕伯格
申请号:
CN201180048861.1
公开号:
CN103153398A
申请日:
2011.10.07
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于建立对于辐射产生装置(14)的辐射规划的方法(1,2)。辐射规划具有多个辐射位置(33),其至少部分地和/或至少暂时地与在应用(12)辐射规划的时刻可以出现的至少一个框架参数(29)相关。在建立(1)辐射规划时更强地考虑辐射位置(33)的如下部分:在所述部分中以更高的可能性预计与至少一个框架参数(29)的相关性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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