面膜结构
- 专利权人:
- 森田生医股份有限公司
- 发明人:
- 周旻升,周俊旭,谢昌卫
- 申请号：
- CN201721461881.2
- 公开号：
- CN208852041U
- 申请日:
- 2017.06.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开一种面膜结构,其包括:表面经过大气压等离子体活化处理的基底层;包含γ‑PGA且通过交联剂接合于所述基底层的附加层;以及包含敷料的敷料层,位于该附加层上,其中敷料可渗入基底层与附加层中。本面膜结构具有提升皮肤弹性、延长敷料停留于肌肤的时间的功效。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
