HWANG, JUNE CHUEL,황준철,CHOI, HONG YOUNG,최홍영,EOM, TAE GWAN,엄태관,CHOI, KYOO OK,최규옥
申请号：
KR1020110107580
公开号：
KR1020130043447A
申请日:
2011.10.20
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要：
PURPOSE: A high energy beam irradiation apparatus of a dental implant is provided to uniformly irradiate to the entire surface of a dental implant by preparing a rotational unit for rotating a dental implant inside of a housing.CONSTITUTION: A high energy beam irradiation apparatus of a dental implant includes a housing(20), a lamp unit(40) and a rotational unit. The housing includes a processing space for high energy beam irradiation inside. The lamp unit is arranged inside of the processing space, irradiates high energy beam to a dental implant and improves or cleans the surface of the dental implant. The rotational unit enables rotation of the dental implant arranged inside of the processing space so that the high energy beam can be irradiated to the entire surface of the dental implant.COPYRIGHT KIPO 2013본 발명은 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하기 위한 고 에너지선 조사장치에 있어서,내부에 고 에너지선 조사를 위한 처리공간을 구비하는 하우징상기 처리공간의 내부에 배치되며 치과용 임플란트에 고 에너지선을 조사하여 그 치과용 임플란트의 표면을 개질하거나 세정하도록 하는 램프부상기 처리공간 내에 배치된 치과용 임플란트를 상기 처리공간 내에서 회전가능하도록 하여 치과용 임플란트의 표면에 전체적으로 고 에너지선이 조사될 수 있도록 하는 회전수단을 포함하는 치과용 임플란트의 고 에너지선 조사장치에 대한 것이다.
