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METHOD OF MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL ELECTRODE SYSTEM AND THREE-DIMENSIONAL ELECTRODE DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD
专利权人:
재단법인대구경북과학기술원;DAEGU GYEONGBUK INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人:
김소희,서희원,김남주
申请号:
KR1020190018897
公开号:
KR1021332880000B1
申请日:
2019.02.19
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method of manufacturing a 3D electrode device and a 3D electrode device manufactured by the method of manufacturing the same, and more specifically, a 3D electrode capable of applying electrical stimulation to the retina by adhering to the retina without damaging the retina. It relates to a manufacturing method of a device and a three-dimensional electrode device manufactured by the manufacturing method thereof. The present invention comprises the steps of: a) depositing a silicon layer on one side of the wafer, and patterning the silicon layer into a predetermined shape; b) depositing a metal layer on the other surface of the wafer where the silicon layer is patterned on one surface, and patterning the metal layer into a predetermined shape; c) forming a processing hole on the other surface of the wafer in which the metal layer is patterned; d) forming a substrate portion in the formed processing hole; e) forming an electrode portion by etching one surface of the wafer on which the substrate portion is formed; And f) forming a deposition layer on the formed upper portion of the electrode portion, wherein the substrate portion is provided to be deformed corresponding to the shape of the retina and the photoreceptor layer, wherein the electrode portion is in close contact with the retina. A method of manufacturing a dimensional electrode device is provided.본 발명은 3차원 전극장치의 제조방법 및 이의 제조방법으로 제조된 3차원 전극장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 망막에 손상을 가하지 않고 망막에 밀착하여 망막에 전기적 자극을 가할 수 있는 3차원 전극장치의 제조방법 및 이의 제조방법으로 제조된 3차원 전극장치에 관한 것이다. 본 발명은 a) 웨이퍼의 일면에 규소층을 증착시키고, 상기 규소층을 기설정된 형상으로 패터닝하는 단계; b) 일면에 상기 규소층이 패터닝된 상기 웨이퍼의 타면에 금속층을 증착시키고, 상기 금속층을 기설정된 형상으로 패터닝하는 단계; c) 상기 금속층이 패터닝된 상기 웨이퍼의 타면에 가공홀을 형성하는 단계; d) 형성된 상기 가공홀에 기판부를 형성하는 단계; e) 상기 기판부가 형성된 상기 웨이퍼의 일면을 식각하여 전극부를 형성하는 단계; 및 f) 형성된 상기 전극부의 상단부에 증착층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 기판부는 상기 망막 및 광수용체층의 형상에 대응하여 변형되도록 마련되어, 상기 전극부를 상기 망막에 밀착시키는 것을 특징으로 하는 3차원 전극장치의 제조방법을 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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