您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

皮膚洗浄剤組成物
专利权人:
KAO CORP
发明人:
HOSOKAWA KUMIKO,細川 久美子,KANEDA KENJI,金田 賢治
申请号:
JP2013271867
公开号:
JP2015124214A
申请日:
2013.12.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a skin cleansing composition which is excellent in a cleansing performance and a skin feeling after cleansing, and has a good finish after successively applying a makeup cosmetic.SOLUTION: The invention provides a skin cleansing composition containing (A) 1-20 mass% of acyl isethionic acid represented by general formula (1) and a salt thereof, (B) 1-20 mass% of (b1) alkyl sulfate or polyoxyethylene alkyl sulphate represented by general formula (2), and (b2) an anionic surfactant selected from alkyl ether carboxylic acid represented by general formula (3) or a salt thereof, (C) 1-15 mass% of 2-ethylhexyl glyceryl ether, as well as (D) water.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】洗浄性能と洗浄後の肌感触に優れ、次に塗布するメイク化粧料の仕上がりも良好な皮膚洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】(A)一般式(1)で表されるアシルイセチオン酸及びその塩1~20質量%、(B)(b1)一般式(2)で表されるアルキル硫酸塩又はポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、及び(b2)一般式(3)で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩、から選ばれるアニオン界面活性剤1~20質量%、(C)2-エチルヘキシルグリセリルエーテル1~15質量%、並びに(D)水を含有する皮膚洗浄剤組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充